Pachet software pentru realizare structuri prin litografie (Drawbeam Advanced and DrawBeam offline)

    SEAP
    ID
    DA14599845
    Data
    24 Noiembrie 2017
    Valoare
    98.764 RON
    Stare
    Oferta acceptata
    Autoritatea contractanta
    3321234 - Institutul National de Cercetare Dezvoltare pentru Fizica si Inginerie Nucleara "Horia Hulubei"
    Localitate
    Magurele, Ilfov
    Furnizor
    36738492 - S.C. NanoSystems MC S.R.L.
    Tipul contractului
    -
    Cod CPV
    48100000-9 - Pachete software pentru industrie (Rev.2)
    Descriere:
    Contract furnizare: “Pachet software pentru realizare structuri prin litografie (Drawbeam Advanced and DrawBeam offline): software dedicat pentru realizarea de structuri, parte a procesului de litografie optica si/sau cu fascicul de electroni”. Modelul de contract si specificatiile tehnice vor fi transmise pe adresa de email postata in SEAP.
    Achizitii
    98.764 RON
    Cantitate: 1
    Unitate masura: Set
    Software pentru realizare structuri prin litografie
    -Compatibilitate 100% cu microscoapele electronice FESEM Tescan -Poate realiza structuri complexe cu viteza si acuratete mare -Poate prelua controlul microscopului SEM pentru a executa litografie cu electroni -Moduri de procesare: EBL (electron beam lithography) -Timp dwelling: 20ns/pixel -Figuri posibile: punct/linie/cruce, dreptunghiuri (contur, dreptunghiuri pline, scari, polisare), cerc (contur, cerc plin), poligoane, imagini tip bitmap sau echivalent, text, obiecte goale (dreptunghiuri, cercuri, poligoane), marcaje de aliniere -Obiecte aranjate pe straturi, fiecare strat avand propriul set de parametri de procesare -Functii de editare precum: undo/redo, taiere/copiere/inserare/stergere, clonare obiecte, grupuri de obiecte, rotire si aliniere obiecte, management obiecte si straturi -Sisteme de coordonate UV, aducere la nivel pe axa Z – corectie inclinare -Scriere de campuri multiple (stitching), navigare pe platan, corectie de proximitate, import din fisiere universale precum GDSII si DXF, aliniere automata si manuala a figurilor; -Permite scrierea in campuri echidistante si replicarea in oglinda a obiectelor -Include licenta separata pentru utilizare pe un alt computer decat computerul microscopului SEM – pentru a putea face design-ul structurilor care vor fi imprimate prin EBL fara a tine ocupat microscopul SEM -Contine o baza de date cu materiale uzuale folosite in litografie Garantie: 24 de luni de la data livrarii. Documente de livrare: Furnizorul va livra impreuna cu echipamentul urmatoarele documente: manual de utilizare (in engleza sau in limba romana, tiparit si/sau pe CD/DVD sau pe alt mediu digital).